2024美國聖何塞光刻技術展

展會時間：

2024年02月25日-29日

展會地點：

北美洲-美國-聖何塞

展會英文：

Advanced Lithography Conference and Expo

舉辦周期：

一年一屆

展會規模：

10000-20000

展覽範圍：

軟件,加工,光學

展會介紹

將您與將推動您的項目向前發展的公司和供應商聯係起來

半導體製造和相鄰應用的光學和 EUV 光刻、圖案化技術、計量和工藝集成方麵

光學和 EUV 納米光刻
DTCO 和計算模式
計量、檢驗和過程控製
新穎的圖案化技術
圖案化材料和工藝的進步
用於納米圖案化的先進蝕刻技術和工藝集成

展館圖

展品範圍

光刻設備、納米技術產品、材料、磨料、化學品、軟件、光學元件、微技術、相機和成像係統
測試測量設備、顯微鏡、數據計算軟件、加工硬件、光學塗層和薄膜
探測器和傳感器、激光器和激光係統

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